हैस्टेलॉय सी-4
Hastelloy C-4 (N06455) Hastelloy एक ऑस्टेनिटिक लो-कार्बन निकल-मोलिब्डेनम-क्रोमियम मिश्र धातु है। Nicrofer6616hMo और समान रासायनिक संरचना के अन्य पूर्व-विकसित मिश्र धातुओं के बीच मुख्य अंतर कम कार्बन, सिलिकॉन, लोहा और टंगस्टन सामग्री है। इस तरह की रासायनिक संरचना इसे 650-1040 डिग्री पर उत्कृष्ट स्थिरता प्रदर्शित करने की अनुमति देती है, इंटरग्रेनुलर जंग के प्रतिरोध में सुधार करती है और एज लाइन जंग की संवेदनशीलता से बचती है और उचित निर्माण स्थितियों के तहत गर्मी से प्रभावित क्षेत्र जंग को वेल्ड करती है। उच्च मोलिब्डेनम और क्रोमियम सामग्री हास्टेलॉय सी -4 मिश्र धातु को विभिन्न प्रकार के रासायनिक मीडिया का प्रतिरोध करने में सक्षम बनाती है, जिसमें फॉस्फोरिक एसिड, हाइड्रोक्लोरिक एसिड, सल्फ्यूरिक एसिड, क्लोरीन और जैविक या अकार्बनिक क्लोरीन युक्त मीडिया जैसे मीडिया को कम करना शामिल है। निकल की उच्च मात्रा के कारण, हेस्टेलॉय सी -4 क्लोरीन के कारण होने वाले तनाव क्षरण क्रैकिंग का विरोध करने में प्रभावी है, यहां तक कि गर्म क्लोराइड समाधानों में भी।
Hastelloy C-4 की रासायनिक संरचना (प्रतिशत)
| C | एम.एन. | P | S | सी | करोड़ | नी | एमओ | फ़े | सीओ | ती |
| 0.015 | 1.00 | 0.040 | 0.030 | 0.08 | 14.00-17.00 | विश्राम | 14.00-17.00 | 3.00 | 2.00 | 0.70 |
हेस्टेलॉय सी-4 के यांत्रिक गुण
| तन्य शक्ति, एमपीए, मिन | उपज शक्ति, एमपीए, मिन | बढ़ाव (प्रतिशत), न्यूनतम | कठोरता, एचबी |
| 760 | 365 | 62 | - |
हास्टेलॉय सी-4 के भौतिक गुण
| घनत्व | गलनांक | विस्तार का गुणांक | लोच के मापांक | कठोरता का मापांक | विधुतीय प्रतिरोधकर्ता | ऊष्मीय चालकता |
| 8.64 ग्राम/सेमी³ | 1399 डिग्री | 10.8 माइक्रोन/एम डिग्री (20 डिग्री -100 डिग्री) | 211 जीपीए | 78.6 जीपीए | 49.1 μΩ.in | 70.0 बीटीयू-इन/ft2hr-डिग्री एफ |
हास्टेलॉय सी-4 के समतुल्य ग्रेड
| श्रेणी | जीबी | GOST | एएसटीएम | यूएनएस | शोर | वर्कस्टॉफ़ एनआर। |
| हैस्टेलॉय सी-4 | एनएस3305 | X15H60M15 | हैस्टेलॉय सी-4 | N06455 | निमो16Cr16Ti | 2.4610 |
हास्टेलॉय सी-4 की विशेषताएं
- अधिकांश संक्षारक मीडिया के लिए उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध, विशेष रूप से परिस्थितियों को कम करने के तहत।
- हलाइड्स के स्थानीय जंग के लिए उत्कृष्ट प्रतिरोध।
हास्टेलॉय सी-4 का अनुप्रयोग
Hastelloy C-4 का व्यापक रूप से अधिकांश रासायनिक क्षेत्रों और उच्च तापमान वाले वातावरण में उपयोग किया जाता है।
विशिष्ट अनुप्रयोग: ग्रिप गैस डिसल्फराइजेशन सिस्टम, पिकलिंग और एसिड पुनर्जनन इकाइयाँ, एसिटिक एसिड और कीटनाशक उत्पादन, टाइटेनियम डाइऑक्साइड उत्पादन (क्लोरीन प्रक्रिया), इलेक्ट्रोप्लेटिंग, आदि।







